當(dāng)前真空表面改性技術(shù)，日益向集成化、多功能化的方向發(fā)展。本項(xiàng)目是在磁控濺射技術(shù)、多弧離子鍍技兩種鍍膜方法的基礎(chǔ)上，結(jié)合先進(jìn)的全方位離子注入技術(shù)，進(jìn)行等離子體復(fù)合表面改性的新技術(shù)。項(xiàng)目利用近年來我國(guó)防工業(yè)支持的航天飛行器表面改性技術(shù)的研究成果，結(jié)合國(guó)內(nèi)外表面改性技術(shù)的最新發(fā)展，實(shí)現(xiàn)包括大閉環(huán)磁控濺射技術(shù)、全方位離子注入技術(shù)、彎曲電弧磁過濾技術(shù)的復(fù)合等離子體增強(qiáng)沉積。與傳統(tǒng)沉積技術(shù)相比，具備以下優(yōu)點(diǎn)：（1）可以在膜與基體之間形成混合界面；（2）可在隨時(shí)對(duì)涂層進(jìn)行摻雜、改善涂層結(jié)構(gòu)和表面能；（3）提供一種方便易行的薄膜材料結(jié)構(gòu)、成分控制手段、能夠在薄膜沉積過程中進(jìn)行摻雜；為新型膜層的制備、提供便利條件；（4）能夠改變北京航空航天大學(xué)科研推廣項(xiàng)目匯編薄膜原有的形核生長(zhǎng)模式；（5）能夠在傳統(tǒng)薄膜的基礎(chǔ)上獲得對(duì)薄膜進(jìn)行進(jìn)一步改性的薄膜，提高薄膜的硬度、抗氧化性、抗腐蝕性等；（6）能夠改善基片對(duì)薄膜的親和性，使得傳統(tǒng)工藝無法附著或者附著差的薄膜實(shí)現(xiàn)薄膜附著、并提高薄膜與基片的結(jié)合力。     項(xiàng)目的應(yīng)用領(lǐng)域非常廣泛，目前已有的主要應(yīng)用領(lǐng)域包括：     工模具：各種鉆頭；各種刀具，各種模具。高質(zhì)量DVD光盤模具等。     裝飾膜層：衛(wèi)生潔具、招牌等     硬質(zhì)保護(hù)膜：眼鏡、表帶     光學(xué)膜：眼鏡、玻璃、光學(xué)器件，     電子領(lǐng)域：導(dǎo)電薄膜、電介質(zhì)膜、半導(dǎo)體薄膜、傳感薄膜、磁性膜。     高性能薄膜：高sp3鍵的類金剛石膜、摻雜DLC膜、CN膜等。     高質(zhì)量的工具：如PCB鉆頭。